從鋁土礦（主要成分是Al₂O₃，含SiO₂、Fe₂O₃、MgO等雜質(zhì)）中提取氧化鋁的通常有兩種工藝．因向鋁土礦中加入NaOH時(shí)形成的赤泥（殘?jiān)�）中常含有鋁硅酸鈉，故流程乙常處理SiO₂含量小于8%的鋁土礦，若SiO₂含量較高則可采用流程甲來(lái)處理．

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）流程甲加入鹽酸后生成Al³⁺的離子方程式為．
（2）流程乙加入燒堿后生成SiO₃^2-的離子方程式為．
（3）流程甲濾液D中通入過(guò)量CO₂的化學(xué)方程式為．
（4）“通入過(guò)量CO₂”能否改用鹽酸，原因是．
（5）濾液E、K中溶質(zhì)的主要成分是（填化學(xué)式），寫(xiě)出該溶質(zhì)的一種用途．

無(wú)機(jī)非金屬材料的主角--硅是地殼中含量居第二位的元素．信息技術(shù)依賴的計(jì)算機(jī)芯片主要是晶體硅，而光纖材料的主要成分是二氧化硅．
（1）在元素周期表中，硅和碳處于同一縱行，它們的最高價(jià)氧化物性質(zhì)迥異．SiO₂的熔點(diǎn)高、硬度大，而干冰熔點(diǎn)低硬度小易升華，其原因是．
（2）寫(xiě)出SiO₂與NaOH反應(yīng)的離子方程式：．
（3）寫(xiě)出SiO₂與Na₂CO₃高溫下反應(yīng)的化學(xué)方程式：．
（4）H₂CO₃的酸性強(qiáng)于H₂SiO₃的酸性．在Na₂SiO₃溶液中，通入CO₂或SO₂都可以得到H₂SiO₃
沉淀，同時(shí)生成Na₂CO₃或Na₂SO₃．CO2-3的空間構(gòu)型是，SO2-3的空間構(gòu)型是．
（5）硅酸鹽是一些結(jié)構(gòu)復(fù)雜的固態(tài)物質(zhì)，通常用氧化物的形式表示其組成．某硅酸鹽可表示為：Mg_a（Si₄O₁₀）（OH）_b（其中a、b為正整數(shù)）．
①a能不能等于2？（填“能”、“不能”或“無(wú)法確定”）．
②a與b應(yīng)滿足的關(guān)系是（寫(xiě)表達(dá)式）．
③a=3時(shí)，此硅酸鹽的表達(dá)式是（以氧化物的形式表示）．

（2011?江山市模擬）以黃鐵礦為原料生產(chǎn)硫酸的主要設(shè)備是沸騰爐、（爐氣精制）、接觸室和吸收塔等．
（1）請(qǐng)寫(xiě)出爐氣制造即沸騰爐中黃鐵礦燃燒的化學(xué)方程式．
（2）爐氣精制的作用是將含SO₂進(jìn)行除法和水洗．而精制爐氣即SO₂的催化氧化，在接觸室中進(jìn)行．
A、精制爐氣（含SO₂體積分?jǐn)?shù)為7%、O₂為11%、N₂為82%）中SO₂平衡轉(zhuǎn)化率與溫度及壓強(qiáng)關(guān)系如圖1所示．在實(shí)際生產(chǎn)中，SO₂催化氧化反應(yīng)的條件選擇常壓、450℃左右（對(duì)應(yīng)圖中A點(diǎn)），而沒(méi)有選擇SO₂轉(zhuǎn)化率更高的B或C點(diǎn)對(duì)應(yīng)的反應(yīng)條件，其原因分別是、．
B、接觸室中2SO₂（g）+O₂（g） 

催化劑 .

△

2SO₃（g），反應(yīng)過(guò)程的能量變化如圖2所示．
已知1mol SO₂（g）氧化為1mol SO₃（g）的△H=-99kJ?mol^-1．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
①圖中C點(diǎn)表示，E的大小對(duì)該反應(yīng)的反應(yīng)熱（填“有”或“無(wú)”） 影響．該反應(yīng)通常用V₂O₅作催化劑，加V₂O₅會(huì)使圖中B點(diǎn)（填“升高”或“降低”）．
②反應(yīng)達(dá)到平衡時(shí)，平衡常數(shù)表達(dá)式K=，升高溫度，K值（填“增大”、“減小”或“不變”）；圖中△H=kJ?mol^-1．
（3）從吸收塔出來(lái)的氣體用一定量氨水吸收，得到的銨鹽產(chǎn)品是（NH₄）₂SO₃和NH₄HSO₃的混合物．取不同質(zhì)量的銨鹽，分別加入x mol/L的50.00mL NaOH溶液中，經(jīng)沸水浴（此溫度下銨鹽自身不分解）加熱使氨氣全部逸出，干燥后用濃硫酸完全吸收．實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)如下：

實(shí)驗(yàn)次數(shù)	銨鹽質(zhì)量（g）	濃硫酸增加的質(zhì)量（g）
第一次	1.570	0.340
第二次	3.140	0.680
第三次	4.710	0.510
第四次	6.280	0

①該銨鹽中（NH₄）₂SO₃和NH₄HSO₃的物質(zhì)的量之比為．
②x的值為．