②除去SiH4中混有的雜質(zhì)氣體請(qǐng)回答下列問題: ⑴對(duì)方法一的理解.有同學(xué)認(rèn)為是NH4+水解產(chǎn)生H+.Mg2Si與H+反應(yīng)生成SiH4.你認(rèn)為該觀點(diǎn)是否正確?并簡述理由 .⑵將方法二的固體產(chǎn)物溶于水.只有一種物質(zhì)能促進(jìn)水的電離.該物質(zhì)促進(jìn)水的電離的實(shí)質(zhì)是 .⑶兩種方法制得的SiH4中均含有少量雜質(zhì).有同學(xué)提出用下列方法除去SiH4中的雜質(zhì).其中肯定不可行是 .a.用稀硫酸洗氣 b. 高溫使雜質(zhì)分解 c.低溫分餾 ⑷甲.乙.丙三同學(xué)在討論SiH4制備方法的化學(xué)反應(yīng)類型時(shí)發(fā)表如下觀點(diǎn).你認(rèn)為正確的是 .a.甲同學(xué)認(rèn)為兩個(gè)反應(yīng)均為氧化還原反應(yīng)b.乙同學(xué)認(rèn)為兩個(gè)反應(yīng)中只有一個(gè)屬于氧化還原反應(yīng)c.丙同學(xué)認(rèn)為要判斷是否屬于氧化還原反應(yīng).還需要知道SiH4中各元素具體的化合價(jià)五. 【查看更多】

 

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（2009?泰州模擬）高純超凈特種氣體主要用于制造半導(dǎo)體器件、化合物半導(dǎo)體、激光器、光導(dǎo)纖維、太陽能電池等．超純硅化氫制備方法如下：（已知：常溫下SiH4難溶于水，與稀硫酸不反應(yīng)，乙醚沸點(diǎn)34.6℃）
①由下列兩種方法制得SiH4
方法一：Mg2Si+4NH4Cl
液氨
SiH4+2MgCl2+4NH3
方法二：LiAlH4+SiCl4
C2H5OC2H5
SiH4+AlCl3+LiCl
②除去SiH4中混有的雜質(zhì)氣體
請(qǐng)回答下列問題：
（1）對(duì)方法一的理解，有同學(xué)認(rèn)為是NH4+水解產(chǎn)生H+，Mg2Si與H+反應(yīng)生成SiH4，你認(rèn)為該觀點(diǎn)是否正確？并簡述理由
不正確，因?yàn)樵摲磻?yīng)在液氨中進(jìn)行，非水體系，不會(huì)水解
不正確，因?yàn)樵摲磻?yīng)在液氨中進(jìn)行，非水體系，不會(huì)水解
．
（2）將方法二的固體產(chǎn)物溶于水，只有一種物質(zhì)能促進(jìn)水的電離，則NaOH、Mg（OH）2、LiOH堿性由強(qiáng)到弱的順序?yàn)?!--BA-->
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
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（3）兩種方法制得的SiH4中均含有少量雜質(zhì)，有同學(xué)提出用下列方法除去SiH4中的雜質(zhì)，其中肯定不可行是
b
b
．
a．用稀硫酸洗氣     b．高溫使雜質(zhì)分解      c．低溫分餾
（4）甲、乙、丙三同學(xué)在討論SiH4制備方法的化學(xué)反應(yīng)類型時(shí)發(fā)表如下觀點(diǎn)，你認(rèn)為正確的是
bc
bc
．
a．甲同學(xué)認(rèn)為兩個(gè)反應(yīng)均為氧化還原反應(yīng)
b．乙同學(xué)認(rèn)為兩個(gè)反應(yīng)中只有一個(gè)屬于氧化還原反應(yīng)
c．丙同學(xué)認(rèn)為要判斷是否屬于氧化還原反應(yīng)，還需要知道SiH4中各元素具體的化合價(jià)．

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