A．（選修模塊3-3）
（1）有以下說(shuō)法，其中正確的是．
A．在兩分子間距離增大的過(guò)程中，分子間的作用力減小
B．布朗運(yùn)動(dòng)反映了花粉小顆粒內(nèi)部分子的無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)
C．晶體一定具有規(guī)則形狀，且有各向異性的特征
D．溫度、壓力、電磁作用等可以改變液晶的光學(xué)性質(zhì)
（2）一定質(zhì)量的理想氣體從狀態(tài)A（p₁、V₁）開(kāi)始做等壓膨脹變化到
狀態(tài)B（p₁、V₂），狀態(tài)變化如圖中實(shí)線所示．此過(guò)程中氣體對(duì)外做的功為，氣體分子的平均動(dòng)能（選填“增大”“減小”或“不變”），氣體（選填“吸收”或“放出”）熱量．
（3）已知地球的半徑R，地球表面的重力加速度g，大氣壓強(qiáng)p₀，空氣的平均摩爾質(zhì)量為M，阿伏加德羅常數(shù)N_A．請(qǐng)結(jié)合所提供的物理量估算出地球周圍大氣層空氣的分子數(shù)．

A． （選修模塊3-3）
（1）對(duì)于分子動(dòng)理論和物體的內(nèi)能理解，下列說(shuō)法正確的是
A、當(dāng)分子間距離從平衡r₀位置增大時(shí)，分子間的引力在減小，但斥力減小得更快，所以分子間作用力將表現(xiàn)為引力
B、布朗運(yùn)動(dòng)是液體分子的運(yùn)動(dòng)，它說(shuō)明分子永不停息地做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)
C、理想氣體在狀態(tài)變化時(shí)，溫度升高，氣體分子的平均動(dòng)能增大，氣體的壓強(qiáng)不一定增大
D、當(dāng)分子間的引力和斥力平衡時(shí)，分子勢(shì)能最小
（2）如圖所示p-V圖，一定質(zhì)量的理想氣體由狀態(tài)A經(jīng)過(guò)程Ⅰ變至狀態(tài)B時(shí)，從外界吸收熱量420J同時(shí)膨脹對(duì)外做功300J．當(dāng)氣體從狀態(tài)B經(jīng)過(guò)程Ⅱ回到狀態(tài)A時(shí)，外界壓縮氣體做功200J，求此過(guò)程中氣體（填“吸收”或“放出”）熱量為J
（3）鍍銅的工藝應(yīng)用很廣泛．如果鍍膜內(nèi)銅原子的個(gè)數(shù)要求是8×10²²個(gè)/米²，取1g銅，均勻鍍?cè)谖矬w表面時(shí)，則能鍍膜的面積為m²．（已知銅的摩爾質(zhì)量為64g/mol，結(jié)果保留兩位有效數(shù)字）

如圖a所示是一個(gè)處于豎直平面內(nèi)的特殊運(yùn)動(dòng)軌道，OA是長(zhǎng)為x₁=2R的直軌道，AE是傾角為30°的斜軌道，它們與滑塊的動(dòng)摩擦因數(shù)都為μ=4/9，EDF是圓心在B點(diǎn)，半徑為R的光滑圓弧，D點(diǎn)是最高點(diǎn)，ED圓弧上方有一個(gè)高度與滑塊相近的光滑圓弧形擋板PQ，軌道上的A、E兩點(diǎn)理想連接，使滑塊經(jīng)過(guò)這兩點(diǎn)時(shí)不損失機(jī)械能，且AE⊥EB．可視為質(zhì)點(diǎn)的滑塊，質(zhì)量為m，以v₀的初速度從O點(diǎn)進(jìn)入OA直軌道，滑塊在OA軌道運(yùn)動(dòng)時(shí)，受到水平向右的動(dòng)力作用，它的大小隨滑塊與O點(diǎn)的距離變化，如圖b所示，圖中F₀=mg．滑塊經(jīng)A點(diǎn)滑上斜軌道，到達(dá)軌道最高點(diǎn)D時(shí)恰好對(duì)軌道和擋板都無(wú)壓力，此時(shí)立刻撤除圓弧形擋板PQ．滑塊經(jīng)D點(diǎn)后能無(wú)碰撞地進(jìn)入一個(gè)特殊的漏斗C，漏斗C能將滑塊以進(jìn)入時(shí)的速率反向彈出．求：
（1）滑塊在D點(diǎn)時(shí)的速度大��；
（2）初速度v₀的大��；
（3）滑塊從漏斗C彈出后會(huì)再次經(jīng)過(guò)D點(diǎn)嗎？若會(huì)經(jīng)過(guò)D點(diǎn)，求經(jīng)多長(zhǎng)時(shí)間再次到達(dá)D點(diǎn)，漏斗離F點(diǎn)的距離x₂多大？若不會(huì)經(jīng)過(guò)D點(diǎn)，請(qǐng)說(shuō)明理由．

用大小不變的水平拉力，沿水平面拉同一物體，前進(jìn)相同距離，一次水平面光滑，另一次水平粗糙，則兩次拉力做功的大小關(guān)系為（　　）