有一質量為M、長度為l的矩形絕緣板放在光滑的水平面上，另一質量為m、帶電量的絕對值為q的物塊（視為質點），以初速度v₀從絕緣板的上表面的左端沿水平方向滑入，絕緣板周圍空間是范圍足夠大的勻強電場區(qū)域，其場強大小，方向豎直向下，如圖所示。已知物塊與絕緣板間的動摩擦因數(shù)恒定，物塊運動到絕緣板的右端時恰好相對于絕緣板靜止；若將勻強電場的方向改變?yōu)樨Q直向上，場強大小不變，且物塊仍以原初速度從絕緣板左端的上表面滑入，結果兩者相對靜止時，物塊未到達絕緣板的右端。求：

(1)場強方向豎直向下時，物塊在絕緣板上滑動的過程中，系統(tǒng)損失的動能；

(2)場強方向豎直向下與豎直向上時，物塊受到的支持力之比；

(3)場強方向豎直向上時，物塊相對于絕緣板滑行的距離。

有一質量為M、長度為l的矩形絕緣板放在光滑的水平面上，另一質量為m、帶電量的絕對值為q的物塊（視為質點），以初速度v₀從絕緣板的上表面的左端沿水平方向滑入，絕緣板周圍空間是范圍足夠大的勻強電場區(qū)域，其場強大小，方向豎直向下，如圖所示。已知物塊與絕緣板間的動摩擦因數(shù)恒定，物塊運動到絕緣板的右端時恰好相對于絕緣板靜止；若將勻強電場的方向改變?yōu)樨Q直向上，場強大小不變，且物塊仍以原初速度從絕緣板左端的上表面滑入，結果兩者相對靜止時，物塊未到達絕緣板的右端。求：

(1)場強方向豎直向下時，物塊在絕緣板上滑動的過程中，系統(tǒng)損失的動能；

(2)場強方向豎直向下與豎直向上時，物塊受到的支持力之比；

(3)場強方向豎直向上時，物塊相對于絕緣板滑行的距離。

有一質量為M、長度為l的矩形絕緣板放在光滑的水平面上，另一質量為m、帶電量的絕對值為q的物塊（視為質點），以初速度v₀從絕緣板的上表面的左端沿水平方向滑入，絕緣板周圍空間是范圍足夠大的勻強電場區(qū)域，其場強大小，方向豎直向下，如圖所示。已知物塊與絕緣板間的動摩擦因數(shù)恒定，物塊運動到絕緣板的右端時恰好相對于絕緣板靜止；若將勻強電場的方向改變?yōu)樨Q直向上，場強大小不變，且物塊仍以原初速度從絕緣板左端的上表面滑入，結果兩者相對靜止時，物塊未到達絕緣板的右端。求：
(1)場強方向豎直向下時，物塊在絕緣板上滑動的過程中，系統(tǒng)損失的動能；
(2)場強方向豎直向下與豎直向上時，物塊受到的支持力之比；
(3)場強方向豎直向上時，物塊相對于絕緣板滑行的距離。

有一質量為M、長度為l的矩形絕緣板放在光滑的水平面上，另一質量為m、帶電量的絕對值為q的物塊（視為質點），以初速度v₀從絕緣板的上表面的左端沿水平方向滑入，絕緣板周圍空間是范圍足夠大的勻強電場區(qū)域，其場強大小，方向豎直向下，如圖所示。已知物塊與絕緣板間的動摩擦因數(shù)恒定，物塊運動到絕緣板的右端時恰好相對于絕緣板靜止；若將勻強電場的方向改變?yōu)樨Q直向上，場強大小不變，且物塊仍以原初速度從絕緣板左端的上表面滑入，結果兩者相對靜止時，物塊未到達絕緣板的右端。求：

(1)場強方向豎直向下時，物塊在絕緣板上滑動的過程中，系統(tǒng)損失的動能；

(2)場強方向豎直向下與豎直向上時，物塊受到的支持力之比；

(3)場強方向豎直向上時，物塊相對于絕緣板滑行的距離。