工業(yè)制備純硅的反應(yīng):SiCl4 (g)+2H2 (g)Si(s)+4HCl(g) △H =Q(Q>O),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng),下列敘述正確的是
[     ]
A.只要時(shí)間足夠長(zhǎng),SiCl4可完全轉(zhuǎn)化為Si
B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時(shí),吸收熱量為Q
C.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl的濃度為0.12mol·L-1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)
D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0. 025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL 1mol·L-1的NaOH中恰好反應(yīng)
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣.
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅,工業(yè)上可以按如下步驟制備高純硅.
Ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;
Ⅱ.粗硅與干燥的氯氣在450~500℃條件下反應(yīng)制得SiCl4
Ⅲ.SiCl4液體經(jīng)精餾提純后與過量H2在1 100~1 200℃條件下反應(yīng)制得高純硅.
已知SiCl4沸點(diǎn)為57.6℃,能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng).1mol H2與SiCl4氣體完全反應(yīng)吸收的熱量為120.2kJ.
請(qǐng)回答下列問題:
①第Ⅲ步反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為
2H2(g)+SiCl4(g)
 1100-1200℃ 
.
 
Si(s)+4HCl(g)△H=+240.4kJ?mol-1
2H2(g)+SiCl4(g)
 1100-1200℃ 
.
 
Si(s)+4HCl(g)△H=+240.4kJ?mol-1

②整個(gè)制備純硅的過程中必須嚴(yán)格控制在無水無氧的條件下.SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

(2)二氧化硅被大量用于生產(chǎn)玻璃.工業(yè)上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高溫下完全反應(yīng)時(shí)放出CO2 44kg,生產(chǎn)出的玻璃可用化學(xué)式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示,則其中x=
4
4

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(2012?開封一模)已知:A、B為常見的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):
(1)寫出反應(yīng)②的化學(xué)方程式
4NH3+5O2
催化劑
.
4NO+6H2O
4NH3+5O2
催化劑
.
4NO+6H2O

(2)反應(yīng)④中每消耗1mol G,轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為
2
3
mol
2
3
mol

(3)反應(yīng)⑥的離子方程式是
2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2
2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2

(4)寫出工業(yè)冶煉金屬乙的化學(xué)方程式
2Al2O3(熔融)
   電解   
.
冰晶石
4Al+3O2
2Al2O3(熔融)
   電解   
.
冰晶石
4Al+3O2

(5)實(shí)驗(yàn)室中保存I的方法是
保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處
保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處

(6)SiCl4與過量A在加熱條件下反應(yīng)可制得高純硅,整個(gè)制備純硅的過程中必須嚴(yán)格控制無水無氧.SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

精英家教網(wǎng)金屬和非金屬與人類生活、生產(chǎn)密不可分.
(1)我國(guó)多使用鐵鍋炒菜,鐵鍋在
 
條件下易生銹.
(2)清末鋁制藝術(shù)品至今保存完好,藝術(shù)品未被銹蝕的主要原因是(填字母)
 

A.鋁不易被氧化
B.鋁的金屬活動(dòng)性比較弱
C.鋁表面的氧化膜具有保護(hù)作用
(3)如圖為金屬與過量鹽酸反應(yīng)的關(guān)系圖,其中A、B兩條直線分別代表鎂、鐵、鋅三種金屬中的兩種.A代表的是(填元素符號(hào))
 
;寫出B與鹽酸反應(yīng)的化學(xué)方程式
 

高純硅是制造計(jì)算機(jī)電路芯片的主要原料.請(qǐng)回答:
①硅元素屬于
 
填金屬或非金屬)元素,在地殼中硅元素的含量?jī)H次于
 
元素.
②硅在氧氣中燃燒生成二氧化硅,并放出大量的熱,可作未來新能源,該反應(yīng)的基本反應(yīng)類型為
 

③工業(yè)上用石英(主要成分為SiO2)制備粗硅的反應(yīng)為:SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2R↑,則R的化學(xué)式為
 
,反應(yīng)后硅元素的化合價(jià)
 
(填寫“升高”或“降低”).
④生產(chǎn)高純硅可用三氯硅烷(SiHCl3).三氯硅烷在空氣中極易燃燒,燃燒時(shí)可觀察到有紅色火焰和白色煙,生成物為二氧化硅、氯化氫和氯氣,此反應(yīng)的化學(xué)方程式為
 

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科目:高中化學(xué) 來源:2012-2013學(xué)年貴州省湄潭中學(xué)高二上學(xué)期期中考試化學(xué)試卷(帶解析) 題型:單選題

工業(yè)上制備純硅的反應(yīng)為:SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上可逆反應(yīng),既能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率又能縮短達(dá)到平衡的時(shí)間的是

A.增大壓強(qiáng)B.減小氫氣濃度C.升高溫度D.加入催化劑

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